Apps & Mobile Entwicklungvor 2 Monaten
TSMC mit ASML: High-NA-EUV ab 2030 mit größeren Fotomasken geplant
Bild: ASML TSMC hat nun auch erstmals öffentlich erklärt, ab 2030 auf High-NA-EUV von ASML zu setzen. Für größere Fotomasken sollen ab 2031 eine Pilotlinie in...
