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MIt High-NA-EUV: SK Hynix bereitet die Next-Gen-Speicherfertigung vor


MIt High-NA-EUV: SK Hynix bereitet die Next-Gen-Speicherfertigung vor

Bild: SK Hynix

SK Hynix hat überraschend angekündigt, in der Speicherfertigung alsbald auf High-NA-EUV zu setzen. Ein erstes System ist bereits geliefert worden. Es wird jetzt in der modernen Fabrik M16 in Icheon, Südkorea, installiert, sodass die Testproduktion beginnen kann. SK Hynix geht damit in die Offensive.

Überraschend früh bei High-NA

Neue Belichtungssysteme sind ein immenser Kostenfaktor. Der Preis für ein High-NA-EUV-System liegt derzeit bei rund dem Doppelten eines klassischen Low-NA-EUV-Scanners, etwa 400 Millionen Euro dürften es sein. Die Systeme sind in der Regel jahrzehntelang im Einsatz und können stets auf die aktuellste Version aufgerüstet werden. Insofern ist der frühe Einstieg letztlich eine vorgezogene Investition, die SK Hynix möglicherweise einen Vorteil gegenüber den Mitbewerbern verschafft.

Wie groß die Unterschiede zwischen den Speicherherstellern sind, zeigt der Mitbewerber Micron: Dort wird gerade erst die EUV-Fertigung eingeführt, SK Hynix nutzt sie bereits seit 2021. Mit den Twinscan EXE:5200B soll die Technologieführerschaft nun in der nächsten Generation fortgesetzt werden.

Auslieferung der ersten EXE:5200B-High-NA-EUV-Maschine (Bild: ASML)

Bisher hat nur Intel deutlich Stellung zu High-NA-EUV bezogen, TSMC und Samsung agieren als Foundry viel vorsichtiger bei dem Thema. Und während Intel die neuen Belichtungsmaschinen bereits in zwei Jahren in Serie nutzen will, gibt es bei den anderen Firmen keinen Zeitplan; immerhin haben sie aber auch jeweils mindestens ein System, um damit erste Tests durchzuführen.

ASML und SK Hynix sehen viel Potenzial

Auf dem Papier sind die Vorteile von High-NA-EUV klar. Was bei den neuen Maschinen in einem oder wenigen Schritten erledigt werden kann, braucht auf klassischen EUV-Scannern Dutzende Schritte und in Zukunft sogar Mehrfachbelichtungen. Weniger Belichtungsschritte bedeutet potenziell Fehler zu reduzieren, gleichzeitig erlaubt das neue System noch kleinere und feinere Strukturen. High-NA wird dabei, wie Low-NA-EUV zu Beginn, nur für wenige kritische Layer genutzt, den Großteil der Belichtung stemmen noch klassische Systeme. Es braucht also nicht gleich eine komplette Fabrik mit diesen neuen Lösungen.

Vorteile von High-NA (Bild: ASML)

SK Hynix hofft die aktuelle Erfolgswelle weiter reiten zu können. Zuletzt hatten die Südkoreaner den großen Mitkonkurrenten Samsung in vielen Bereichen des Speichermarkts in die Schranken gewiesen, waren zuletzt wieder die Nummer 1 unter den Speicherhersteller. Vor allem der Erfolg bei High-End-Speicher wie HBM verhalf SK Hynix zu dieser Position.

With the adoption of the new system, SK hynix plans to simplify the existing EUV process and accelerate the development of the next-generation memory to advance product performance and cost competitiveness. The company also aims to enhance its position in the high-value memory product market and make its technological leadership stronger.



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