Künstliche Intelligenzvor 2 Stunden
Chip-Lithografie: High-NA EUV erstmals im Produktiveinsatz
ASML und Intel melden einen Meilenstein bei der Einführung neuer Lithografie-Systeme mit extrem-ultravioletter Belichtungstechnik bei hoher numerischer Apertur (High-NA EUV). Dabei kommen größere Optiken zum Einsatz,...
